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液相玻璃法制備石墨烯機械法分散機采用先jin的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
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液相直接剝離法,石墨烯研磨分散機,德國液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機,SGN液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機是是利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩定(stabilization)目的。
(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)
液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機通常直接把石墨或膨脹石墨(EG)(一般通過快速升溫至1000℃以上把表面含氧基團除去來獲?。┘釉谀撤N有機溶劑或水中, 借助超聲波、加熱或氣流的作用制備一定濃度的單層或多層石墨烯溶液。Coleman等參照液相剝離碳納米管的方式將石墨分散在N-甲基吡咯烷酮(NMP)中, 超聲1h后單層石墨烯的產率為1%, 而長時間的超聲(462h)可使石墨烯濃度高達1.2mg/mL, 單層石墨烯的產率也提高到4%[17]。 他們的研究表明, 當溶劑的表面能與石墨烯相匹配時, 溶劑與石墨烯之間的相互作用可以平衡剝離石墨烯所需的能量, 而能夠較好地剝離石墨烯的溶劑表面張力范圍為40~50mJ/m²;Hamilton 等。把石墨直接分散在鄰二氯苯(表面張力:36.6mJ/m²)中, 超聲、離心后制備了大塊狀(100~500nm)的單層石墨烯;Drzal 等[利用液−液界面自組裝在三lv甲烷中制備了表面高度疏水、高電導率和透明度較好的單層石墨烯。為提高石墨烯的產率, ZUI近Hou 等發展了一種稱為溶劑熱插層(solvothermal-asssisted exfoliation)制備石墨烯的新方法(圖2-5),該法是以EG為原料, 利用強極性有機溶劑乙腈與石墨烯片的雙偶極誘導作用(dipoleinduceddipole interaction)來剝離、分散石墨, 使石墨烯的總產率提高到10%~12%。同時, 為增加石墨烯溶液的穩定性, 人們往往在液相剝離石墨片層過程中加入一些穩定劑以防止石墨烯因片層間的范德華力而重新聚集。
分散方法主要有:
研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內向旋轉,部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經幾次循環,可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產的需求。
球磨分散:通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
砂磨分散:砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質是用微細的珠或砂。砂磨機可連續進料,納米粉體的預混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。
研磨分散機的性能特點:
1.線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力非常強烈,通常所說的超細濕磨
2.定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4.在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5.高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
6.采用優化設計理念,將先進的技術與創新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
7.通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,高線速度的吸料式葉輪提供很強的切割力,纖維濕法研磨破碎.
8.采用整體式機械密封,ZUI大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
9.采用先jin的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一層分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,4P,6F,8SF等六種乳化頭供客戶選擇)SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000/18000rpm,是目前普通設備轉速的4-5倍。
(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)
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